[发明专利]抗热冲击快速升温CaF2晶体退火装置

摘要

本发明涉及一种CaF2晶体退火装置，当生长的CaF2晶体直径大于50mm时，或者对所生长晶体的质量，尤其是应力双折射指标有较高的要求时，通常采用在真空条件下精密退火的方法来改善晶体内部应力分布，减小晶体内部应力引起的双折射。为了减小晶体退火过程中的电能消耗，以及提高退火的效果，在真空退火炉内设计了双加热系统，内加热系统温场的等温面与晶体毛坯大面平行，可实现以较快的速度升温。外加热系统位于内保温层外部，用来缓慢降温，这种设计可提高由坩埚、晶体、坩埚填料等共同构成温场的惰性，可有效地抵抗环境的热冲击，提高晶体降温过程的稳定性，在坩埚中添加氟化剂和CaF2多晶粉，即可增加热惰性又可防止晶体被氧化。

主权项

一种CaF2光学晶体退火装置，其特征是：在圆柱状石墨坩埚内装有数块圆盘状CaF2晶体毛坯，晶体上下两侧用钼丝固定有石墨圆板；坩埚、晶体和石墨圆板之间填充有填料，填料由CaF2多晶颗粒和导热颗粒，以及1‑4%重量比的ZnF2粉构成； 在真空退火炉内安装双加热系统，内加热系统的发热体位于坩埚上下两侧，用来升温；外加热系统的发热体位于内保温层圆柱面的外侧，用来缓慢降温；在退火升温和降温之间的恒温阶段实现内外发热体的切换。