[发明专利]一次先蚀后镀金属框减法埋芯片正装平脚结构及工艺方法有效

专利信息
申请号: 201310645357.0 申请日: 2013-12-05
公开(公告)号: CN103681583A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 梁志忠;梁新夫;王亚琴 申请(专利权)人: 江苏长电科技股份有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L23/31;H01L21/56;H01L21/60
代理公司: 江阴市同盛专利事务所(普通合伙) 32210 代理人: 唐纫兰
地址: 214434 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种一次先蚀后镀金属框减法埋芯片正装平脚结构及工艺方法,其特征在于所述结构包括金属基板框,在所述金属基板框内部设置有基岛和引脚,所述基岛和引脚的正面与金属基板框正面齐平,所述引脚的背面与金属基板框的背面齐平,所述基岛背面与引脚的台阶面齐平,所述引脚的台阶面上设置有金属层,所述基岛的背面通过导电或不导电粘结物质设置有芯片,所述芯片的正面与引脚的台阶面上的金属层表面之间用金属线相连接,所述基岛、引脚以及芯片和金属线外均包封有塑封料,所述塑封料与金属基板框的上下表面齐平,在所述基岛正面、引脚的正面和背面以及金属基板框的表面镀有抗氧化层或被覆抗氧化剂(OSP)。本发明的有益效果是:它能够解决传统金属引线框的板厚之中无法埋入物件而限制金属引线框的功能性和应用。
搜索关键词: 一次 先蚀后 镀金 减法 芯片 正装平脚 结构 工艺 方法
【主权项】:
一种一次先蚀后镀金属框减法埋芯片正装平脚结构的工艺方法,所述方法包括如下步骤:步骤一、取金属基板步骤二、贴光阻膜作业在金属基板的正面及背面分别贴上可进行曝光显影的光阻膜;步骤三、金属基板表面去除部分光阻膜利用曝光显影设备将步骤二完成贴光阻膜作业的金属基板表面进行图形曝光、显影与去除部分图形光阻膜;步骤四、化学蚀刻在步骤三中金属基板表面去除部分光阻膜的区域内进行化学蚀刻;步骤五、去除光阻膜去除金属基板表面的光阻膜;步骤六、贴光阻膜作业在金属基板的表面贴上可进行曝光显影的光阻膜;步骤七、金属基板背面去除部分光阻膜利用曝光显影设备将步骤六完成贴光阻膜作业的金属基板背面进行图形曝光、显影与去除部分图形光阻膜,以露出金属基板背面后续需要进行电镀的区域图形;步骤八、电镀金属线路层在步骤七的金属基板背面进行金属线路层的电镀工作,金属线路层电镀完成后即依据图形在金属基板上形成相应的基岛和引脚;步骤九、去除光阻膜去除金属基板表面的光阻膜;步骤十、装片在步骤八的基岛正面通过导电或不导电粘结物质植入芯片;步骤十一、金属线键合在芯片正面与引脚背面之间进行键合金属线作业;步骤十二、包封对步骤十一的金属基板内部采用塑封料进行塑封,塑封料与金属基板的正面和背面均齐平;步骤十三、电镀抗氧化金属层或是被覆抗氧化剂(OSP)在完成步骤十二后的金属基板表面裸露在外的金属进行电镀抗氧化金属层(OSP)。
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