[发明专利]一种可抑制材料表面热发射率不均影响的热图像处理方法有效
申请号: | 201310648340.0 | 申请日: | 2013-12-05 |
公开(公告)号: | CN103646386A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 程玉华;白利兵;陈凯;张杰 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G06T5/50 | 分类号: | G06T5/50 |
代理公司: | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人: | 温利平 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种可抑制材料表面热发射率不均影响的热图像处理方法,采用冷却结束时的红外热图像中各像素的红外热响应幅度减去加热开始前的红外热响应幅度,再以结果去除加热开始至结束期间任意时刻各像素的红外热响应幅度与加热开始前的红外热响应幅度的差,生成新的热红外图像。采用本发明生成的热红外图像,可以抑制材料表面本身存在的热发射率不均对热红外图像影响,排除对缺陷检测的干扰,提高对缺陷的检测准确率。 | ||
搜索关键词: | 一种 可抑制 材料 表面 发射 不均 影响 图像 处理 方法 | ||
【主权项】:
1.一种可抑制材料表面热发射率不均影响的热图像处理方法,其特征在于包括以下步骤:S1:加热开始前,采集被测件在热平衡状态下的红外热图像,其中各像素点(m,n)处红外热响应幅度记为
S2:对被测件加热并冷却,在此期间任意时刻t采集一幅被测件的红外热图像,其中各像素点(m,n)处红外热响应幅度
S3:当被测件冷却至热平衡状态时,采集被测件的红外热图像,其中各像素点(m,n)处红外热响应幅度记为
S4:生成新的红外热红外图像,各像素点(m,n)的红外热响应幅度计算公式为:j m , n = j m , n * ( t ) - j m , n * ( 0 ) j m , n * ( t 1 ) - j m , n * ( 0 ) . ]]>
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