[发明专利]一种单晶硅切削液及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310654129.X 申请日: 2013-12-05
公开(公告)号: CN103710122A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 章功国;王泾文;段宗银;李纯金;陈超;王淑妍;张少伍;王晓芬;谢勇 申请(专利权)人: 马鞍山市恒毅机械制造有限公司
主分类号: C10M173/00 分类号: C10M173/00;C10N40/22;C10N30/04;C10N30/06;C10N30/12;C10N30/16
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 243181 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种单晶硅切削液,由下列重量份的原料制成:煤油20-24、二乙二醇10-12、甘油5-8、三乙醇胺1-2、硫酸钴1-2、乌洛托品1-2、OP-101-2、氯化石蜡2-3、草酸2-4、四氟化锆2-3、月桂酸钠1-2、助剂6-8、水200;本发明切削液通过使用甘油、氯化石蜡以及溶剂和表面活性剂,使得切削液具有优异的润滑性、极压抗磨性、清洗分散性,提高了切割成品率;而且该切削液对硅片腐蚀性小,能在硅片表面形成保护膜,提高了硅片的品质,同时切削液无毒、不易燃、抗菌防腐性好、化学性能稳定,使用时间长,适用于单晶硅等半导体材料的多线切割,具有携载能力强、高悬浮等特点。
搜索关键词: 一种 单晶硅 切削 及其 制备 方法
【主权项】:
一种单晶硅切削液,其特征在于由下列重量份的原料制成:煤油20‑24、二乙二醇10‑12、甘油5‑8、三乙醇胺1‑2、硫酸钴1‑2、乌洛托品1‑2、OP‑10 1‑2、氯化石蜡2‑3、草酸2‑4、四氟化锆2‑3、月桂酸钠1‑2、助剂6‑8、水200;所述的助剂由下列重量份的原料制成:聚氧乙烯山梨糖醇酐单油酸酯2‑3、氮化铝粉0.1‑0.2、硼酸2‑3、吗啉1‑2、硅酸钠1‑2、硅烷偶联剂KH‑560 1‑2、过硫酸钾1‑2、桃胶3‑4、水20‑24;制备方法是将过硫酸钾溶于水后,再加入其它剩余物料,搅拌10‑15分钟,加热至70‑80℃,搅拌反应1‑2小时,即得。
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