[发明专利]一种耐强酸的光掩膜及其制作方法

摘要

本发明公开了一种耐强酸的光掩膜及其制作方法。该耐强酸的光掩膜包括玻璃基板和设置在玻璃基板上的铬膜层，其中铬膜层包括朝向远离玻璃基板方向依次设置的铬碳氮化物遮光膜层和铬氮氧化物减反射膜层。该制作方法包括获取玻璃基板，在玻璃基板上形成铬膜层，其中形成铬膜层的步骤包括在玻璃基板上形成铬碳氮化物遮光膜层；在铬碳氮化物遮光膜层上形成铬氮氧化物减反射膜层。本发明的具有双层结构铬膜层的光掩膜具有良好的耐强酸腐蚀性，因此可以采用强酸对本发明提供的光掩膜进行清洗，以使其保持洁净的状态，进而保证存储信息的可靠性。

主权项

一种耐强酸的光掩膜，包括玻璃基板(10)和设置在所述玻璃基板(10)上的铬膜层(20)，其特征在于，所述铬膜层(20)包括朝向远离所述玻璃基板(10)方向依次设置的铬碳氮化物遮光膜层(21)和铬氮氧化物减反射膜层(23)；所述铬碳氮化物遮光膜层(21)中氮的质量百分比含量为30～40％、碳的质量百分比含量为2％～5％；所述铬氮氧化物减反射膜层(23)中氮的质量百分比含量为15～18％、氧的质量百分比含量为20～25％。