[发明专利]一种地瓜低温育种方法

摘要

本发明公开了一种地瓜低温育种方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：（1）将要处理的地瓜种子在KH2P04溶液中浸泡；（2）再置于液氮中泡浸，取出后在温水中解冻；（3）在准备种植的土壤上覆盖腐熟有机质，控制水分含量为60-70%；（4）播入土壤中，幼苗长到真叶2-3片时移栽。本发明的方法使种子内部发生理化突变，突变酶的活化，促使基因的活化，具有比传统育种方法缩短周期，种子预处理剂的成分确定，能精确控制，从而能保证健康种子的发芽率，操作方便，大规模育苗的限制因素少，应用前景广阔。

主权项

一种地瓜低温育种方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：（1）将要处理的地瓜种子用纱布包裹，在浓度为0.5‑0.6%的KH2P04溶液中浸泡4‑5h；（2）再置于液氮中泡浸1‑1.5h，从液氮中取出种子快速放入20‑25℃的温水中解冻； （3）在准备种植的土壤上覆盖腐熟有机质，种植前一天给土壤浇水，控制水分含量为60‑70%为宜；（4）将处理后的种子按播种量为0.3kg/m2播入上述的土壤中，控制底部土壤的pH为5‑6，厚度大于8cm，幼苗长到真叶2‑3片时移栽。