[发明专利]光阻墙成型方法

摘要

本发明提供了一种光阻墙成型方法，其使用注塑技术成型一块平板，平板的正面具有第一凸台和第二凸台，在第一凸台和第二凸台之间由凹槽分隔；将所述平板正面滚胶并与第一基板压合，使得所述第一凸台粘贴在所述第一基板上；对平板背面进行碾磨减薄，直至第一凸台和第二凸台底部分离；去除残留在第一基板上的第二凸台，并清洗去除第一凸台上的残留物，形成光阻墙结构。本发明的优点是本发明中光阻墙结构是单独成型，相比传统光刻胶光刻方法可大大减少在光阻墙成型过程中污染导致不合格器件产生的几率。注塑使用的材料具有高刚度、低CTE和低吸湿性等性能，提高光阻墙光罩结构强度，有效减少分层和脱离等可靠性问题。

主权项

一种光阻墙成型方法，其特征是，包括以下步骤：（a）使用注塑技术成型一块平板，平板的正面具有第一凸台（1）和第二凸台（2），所述第一凸台（1）为网格状，每个网格内具有一个第二凸台（2），在第一凸台（1）和第二凸台（2）之间由凹槽分隔，所述第一凸台（1）的高度大于第二凸台（2），高度差大于20微米；所述第一凸台（1）表面平整度小于5微米；所述平板的材料选自酚醛树脂、苯并恶嗪树脂、氰酸树脂、聚酰亚胺、双马来酰亚胺、聚苯醚、聚醚醚酮在内的封装树脂及其改性材料；（b）将所述平板正面滚胶并与第一基板（3）压合，使得所述第一凸台（1）粘贴在所述第一基板（3）上；所述第一基板（3）为透光率95%以上的透明基板；（c）对平板背面进行碾磨减薄，直至第一凸台（1）和第二凸台（2）底部分离；（d）去除残留在第一基板（3）上的第二凸台（2），并清洗去除第一凸台（1）上的残留物，形成光阻墙结构；将步骤（d）得到的光阻墙结构与第二基板（5）键合，使得第一基板（3）和第二基板（5）之间由第一凸台（1）密封形成了多个腔体（4）；所述第二基板（5）为具有走线的集成电路基板。