[发明专利]一种可测竖直位移的两轴光栅位移测量系统有效

专利信息
申请号: 201310675318.5 申请日: 2013-12-12
公开(公告)号: CN103673899A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 林杰;关健;金鹏;谭久彬 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02
代理公司: 哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙) 23209 代理人: 张伟
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种可测竖直位移的两轴光栅位移测量系统涉及一种光栅位移测量系统;该测量系统包括单频激光光源、分光部件、干涉光路部件、光电探测及信号处理部件和一维反射式测量光栅;所述干涉光路部件包括偏振分光棱镜、测量臂四分之一波片、测量臂折光元件、参考臂四分之一波片、参考臂折光元件和一维反射式参考光栅;所述一维反射式测量光栅和一维反射式参考光栅表面形貌相同;所述测量臂折光元件和参考臂折光元件的折光角度均为θi,且满足2dsinθi=±mλ;本发明不仅能够同时测量沿x轴、z轴两个方向的直线位移,而且相比已有技术该系统的z向位移量程得到了极大的扩展。
搜索关键词: 一种 竖直 位移 光栅 测量 系统
【主权项】:
一种可测竖直位移的两轴光栅位移测量系统,其特征在于:包括单频激光光源(1)、分光部件(2)、干涉光路部件(3)、光电探测及信号处理部件(4)和一维反射式测量光栅(5);所述干涉光路部件(3)包括偏振分光棱镜(31)、测量臂四分之一波片(32)、测量臂折光元件(33)、参考臂四分之一波片(34)、参考臂折光元件(35)和一维反射式参考光栅(36);所述一维反射式测量光栅(5)和一维反射式参考光栅(36)表面形貌相同;所述测量臂折光元件(33)和参考臂折光元件(35)的折光角度均为θi,且满足2dsinθi=±mλ,式中λ为单频激光光源(1)的波长、d为一维反射式测量光栅(5)和一维反射式参考光栅(36)的光栅周期、m为衍射级次;所述单频激光光源(1)射出的单频激光经过分光部件(2)分成两束平行光,这两束平行光经过偏振分光棱镜(31)后分为传播方向被偏折90度的测量光和沿原方向传播的参考光,测量光的偏振方向与参考光的偏振方向垂直,测量光的两束平行光经过快轴方向与测量光偏振方向呈45度的测量臂四分之一波片(32)后,均被测量臂折光元件(33)偏折,偏折后的两束测量光入射至一维反射式测量光栅(5)并分别被衍射为+m级衍射测量光和‑m级衍射测量光,±m级衍射测量光分别沿各自入射光的反方向传播,并再次经过测量臂折光元件(33)、测量臂四分之一波片(32)和偏振分光棱镜(31)后,入射至光电探测及信号处理部件(4);参考光的两束平行光经过快轴方向与参考光偏振方向呈45度的参考臂四分之一波片(34)后均被参考臂折光元件(35)偏折,偏折后的两束参考光入射至一维反射式参考光栅(36)并分别被衍射为+m级衍射参考光和‑m级衍射参考光,±m级衍射参考光分别沿各自入射光的反方向传播,并再次经过参考臂折光元件(35)、参考臂四分之一波片(34)和偏振分光棱镜(31)后,入射至光电探测及信号处理部件(4);两束衍射测量光分别和两束衍射参考光在光电探测及信号处理部件(4)表面形成两组干涉,干涉信号被光电探测及信号处理部件(4)探测并处理,一维反射式测量光栅(5)相对干涉光路部件(3)沿x轴和z轴运动时,光电探测及信号处理部件(4)分别输出x方向和z方向的直线位移。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于哈尔滨工业大学,未经哈尔滨工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310675318.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top