[发明专利]原子层沉积装置无效
| 申请号： | 201310681168.9 | 申请日： | 2013-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN103866292A | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 全蓥卓;崔鹤永 | 申请（专利权）人： | 丽佳达普株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明的原子层沉积装置，包括：气体吸排单元，该气体吸排单元具备：供气管，在内部形成有供气流道；排气管：在内部形成有与所述供气流道连通的压力缓和部；吸气管，其围绕所述排气管的外周面的至少一部分，从而在内部形成吸气流道；以及气体喷射压调节单元，连接在所述供气流道或所述压力缓和部上供应气体，使从所述排气管排出的气体的喷射压力在所述排气管的整个长度上相同。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 沉积 装置 | ||
【主权项】：
一种原子层沉积装置，其特征在于，包括：气体吸排单元，所述气体吸排单元具备：供气管，在内部形成有供气流道；排气管：在内部形成有与所述供气流道连通的压力缓和部；吸气管，其围绕所述排气管的外周面的至少一部分，从而在内部形成吸气流道；以及气体喷射压调节单元，连接在所述供气流道或所述压力缓和部上供应气体，使从所述排气管排出的气体的喷射压力在所述排气管的整个长度上相同。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
