[发明专利]冷却装置以及真空蒸镀设备有效
| 申请号： | 201310684824.0 | 申请日： | 2013-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN103668083B | 公开（公告）日： | 2016-10-19 |
| 发明（设计）人： | 焦志强;孙力 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种冷却装置以及真空蒸镀设备，可以加速真空蒸镀设备蒸发源的冷却过程，减少真空蒸镀设备冷却所需时间，有效提高真空蒸镀设备的使用效率。本发明实施例的冷却装置，用于冷却真空蒸镀设备的蒸发源，冷却装置包括：若干个冷却单元；驱动单元，用于驱动冷却单元包覆蒸发源；设置于冷却单元内部的冷却管，冷却管包括至少一个冷却液进料口以及至少一个冷却液出料口。 | ||
| 搜索关键词： | 冷却 装置 以及 真空 设备 | ||
【主权项】：
一种冷却装置，用于冷却真空蒸镀设备的蒸发源，其特征在于，所述冷却装置包括：若干个冷却单元，且所述冷却单元与所述蒸发源的整体形状相互匹配；驱动单元，用于驱动所述冷却单元从侧面包覆所述蒸发源以冷却所述蒸发源及所述蒸发源内的蒸镀材质；设置于所述冷却单元内部的冷却管，所述冷却管包括至少一个冷却液进料口以及至少一个冷却液出料口。
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