[发明专利]一种窄粒径分布表面富有机化有机硅氧烷微球的制备方法无效
申请号: | 201310691799.9 | 申请日: | 2013-12-17 |
公开(公告)号: | CN103739847A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 韦兴祥;欧阳昌伟 | 申请(专利权)人: | 韦兴祥;欧阳昌伟 |
主分类号: | C08G77/38 | 分类号: | C08G77/38;C08G77/18;C08G77/20;C08G77/28;C08G77/06;C08G77/388 |
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地址: | 550018 贵州省贵阳*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 一种窄粒径分布表面富有机化有机硅氧烷微球的制备方法,包括如下步骤:(1)向去离子水中加入阴离子表面活性剂、聚合物稳定剂,机械搅拌制得分散液;(2)将硅氧烷单体加入分散液中,恒温条件下机械搅拌一段时间,后向其中加入碱性催化剂引发反应一段时间,制得硅氧烷微球混合液;(3)将微球混合液PH值调整至一定范围,加入富有机基硅烷单体,搅拌反应一段时间,使富有机基硅烷单体反应接枝到硅氧烷微球上;(4)将反应产物离心,所得固体,经洗涤、干燥,即得到窄粒径分布表面富有机化硅氧烷微球产品。本发明制备方法简单,反应条件要求不高,制备成本低,所制得的有机硅氧烷微球粒径分布窄,表面极性低。 | ||
搜索关键词: | 一种 粒径 分布 表面 富有 机化 有机硅 氧烷微球 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种窄粒径分布表面富有机化硅氧烷微球的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)分散液制备,在去离子水中,按需要比例加入阴离子表面活性剂、稳定剂,所述阴离子表面活性剂与去离子水的质量份比例为0.1~5:100,稳定剂与去离子水的质量份比例为0.01~1:100,然后在机械搅拌下作用一段时间T1,所述时间T1为5~60分钟溶解分散,得到分散液;(2)将一定质量为M1的硅氧烷单体加入到步骤(1)的分散液中,所述的单体质量M1与去离子水的质量份比例为10~45:100,然后置于温度K条件下,所述温度K为15~90摄氏度,在机械搅拌下作用一段时间T2,使单体充分分散,所述时间T2为5~35分钟,然后向其中加入碱性催化剂引发反应一段时间T3,所述碱性催化剂与去离子水的质量份比例为0.05~1:100,时间T3为1~6小时,以使硅氧烷单体反应完为佳,便制得所需硅氧烷微球混合液;(3)将步骤2所制得的硅氧烷微球混合液PH值调整至一定范围后,加入质量为M2的富有机基硅烷,继续搅拌反应时间T4,所述的富有机基硅烷质量M2为与去离子水的质量份比例为0.05~1:100,时间T4为1~6小时;使有富机基硅烷单体反应接枝到硅氧烷微球上,从而制得表面富有机化硅氧烷微球分散液;(4)将步骤(3)所制得到的分散液通过离心方式,使体系中固液分离,所得固体,经洗涤,干燥,便得到所需表面富有机化硅氧烷微球产品。
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