[发明专利]感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板有效
申请号: | 201310692470.4 | 申请日: | 2009-07-23 |
公开(公告)号: | CN103728794B | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 山崎宏 | 申请(专利权)人: | 日立化成株式会社 |
主分类号: | G02F1/1343 | 分类号: | G02F1/1343 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶;孔博 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及感光性导电膜、导电膜的形成方法、导电图形的形成方法以及导电膜基板。本发明提供一种感光性导电膜,其特征在于,具备:支撑膜;设置于该支撑膜上并含有导电性纤维的导电层;设置于该导电层上的感光性树脂层。 | ||
搜索关键词: | 感光性 导电 形成 方法 图形 以及 膜基板 | ||
【主权项】:
1.一种转印用感光性导电膜,其特征在于,具备:支撑膜;设置于该支撑膜上并含有导电性纤维的导电层;设置于该导电层上的含有具有羧基的粘合剂聚合物和具有乙烯性不饱和键的光聚合性化合物且具有碱显影性的感光性树脂层,所述导电性纤维的纤维直径为1nm~50nm,所述导电性纤维的纤维长度为1μm~100μm,所述转印用感光性导电膜从所述感光性树脂层侧层压于基板上。
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