[发明专利]一种石墨烯图形化掺杂方法有效

专利信息
申请号: 201310692748.8 申请日: 2013-12-17
公开(公告)号: CN103710759A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 叶冬;于尧;吴跃;柳林 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: C30B31/20 分类号: C30B31/20
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 朱仁玲
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种石墨烯图形化掺杂方法,包括如下步骤:(1)将氦气与掺杂气体混合作为工作气体导入等离子体发生装置中,施加高压脉冲电压,在工作气体中放电产生室温常压等离子体,将形成的等离子体由引导管的喷嘴导出,形成微等离子体射流;(2)将喷嘴对准石墨烯薄膜的指定位置,用微等离子体射流对石墨烯薄膜进行辐照,将工作气体的活性原子掺入到被辐照的区域,在二维平面内移动微等离子体射流或石墨烯薄膜,实现对石墨烯的图形化掺杂。该方法可有效地将杂质原子掺入到石墨烯的骨架位置上,且不会对石墨烯的原本结构产生破坏,掺杂过程简单易行,设备成本低廉,可实现大规模生产。
搜索关键词: 一种 石墨 图形 掺杂 方法
【主权项】:
一种石墨烯图形化掺杂方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将氦气与掺杂气体混合作为工作气体导入等离子体发生装置中,施加高压脉冲电压,在工作气体中放电产生室温常压等离子体,将形成的等离子体由引导管的喷嘴导出,形成微等离子体射流;(2)将所述喷嘴对准石墨烯薄膜的指定位置,用微等离子体射流对石墨烯薄膜进行辐照,将工作气体的活性原子掺入到被辐照的区域,在二维平面内移动微等离子体射流或石墨烯薄膜,实现对石墨烯的图形化掺杂。
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