[发明专利]在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法

摘要

一种在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法，涉及光谱技术领域，要解决的技术问题是提供一种高精度调整干涉条纹方向的方法，解决技术问题的技术方案为：将基准光栅置于二维运动工作台上；配备一套扫描曝光光路；调节反射镜使曝光光束均满足Littrow条件；沿扫描方向移动工作台，根据CCD上观察到的干涉图样变化情况调节基准光栅方向；调节平面反射镜，使两光束在位置PSD和角度PSD上重合。采用本发明所述的方法能精确调节干涉条纹方向，为扫描干涉场曝光系统在扫描过程中的对比度提供了保证，对扫描曝光全息光栅的制作具有较大的实际意义。

主权项

在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法，其特征是，该方法由以下步骤实现：步骤一、将基准光栅（9）和光栅基底（3）放置于二维运动工作台（4）上，基准光栅（9）表面与光栅基底（3）表面位于同一平面内。步骤二、配备扫描曝光光路；调整曝光光路中的两路曝光光束，使两路曝光光束在光栅基底（3）表面形成干涉场；步骤三、移动二维运动工作台（4），使步骤二中形成的干涉场位于基准光栅（9）上，并调整两路曝光光束在基准光栅（9）表面重合且均满足自准直条件；步骤四、沿扫描方向移动二维工作台（4），并根据CCD（18）上的干涉图变化调整基准光栅（9）的方向；调整曝光光路，使两路光束在位置和角度分别在位置PSD（21）和角度PSD（24）上重合，实现基准光栅（9）的刻线方向与二维工作台扫描方向平行。