[发明专利]具有改善的可靠性的无掩模光刻系统有效
申请号: | 201310693649.1 | 申请日: | 2006-07-25 |
公开(公告)号: | CN103645615A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 斯泰恩·威廉·赫尔曼·卡雷尔·斯腾布林克;彼得·克勒伊特;马尔科·扬-哈科·威兰 | 申请(专利权)人: | 迈普尔平版印刷IP有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 张英;王玉桂 |
地址: | 荷兰代*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种具有改善的可靠性的无掩模光刻系统。本发明的用于将图案转移到目标表面上的无掩模光刻系统包括:至少一个细光束光学单元,用于产生多个细光束;至少一个测量单元,用于测量每个细光束的性能;至少一个控制单元,用于产生图案数据并将图案数据递送到所述细光束光学单元,所述控制单元操作性耦合至所述测量单元,用于确定具有在所述性能的预定数值范围之外的测量性能值的无效细光束;至少一个致动器,用于引起所述细光束光学单元和所述目标彼此相对地移动,其中所述致动器与所述控制单元操作性耦合,所述控制单元确定所述移动,将有效细光束定位在所述无效细光束的位置,因而用有效细光束代替所述无效细光束。 | ||
搜索关键词: | 具有 改善 可靠性 无掩模 光刻 系统 | ||
【主权项】:
一种利用无掩模多细光束光刻系统来将图案转移到目标的表面上的方法,包括以下步骤:‑产生多个细光束;‑测量每个细光束的性能;‑将所述多个细光束中的具有在所述性能的预定数值范围之外的性能值的细光束确定为无效细光束,并且将所述多个细光束中的具有在所述性能的预定数值范围之内的性能值的细光束确定为有效细光束;‑关掉或永久地取消所述无效细光束,由此防止无效细光束到达所述表面;‑在第一行的第一扫描期间,相对于系统的其余部分沿着第一行在扫描方向(S1)上移动所述目标,并且在所述移动期间,通过使用所述多个细光束中的所述有效细光束将所述图案写入到所述表面上,其中在所述无效细光束的位置上的所述图案的部分没有被正确地写入;‑随后彼此相对地移动所述表面和至少部分所述光刻系统,其中所述移动的大小使得用替代细光束代替每个无效细光束,其中所述替代细光束是所述多个细光束的所述有效细光束之一,其中所述移动在基本上垂直于所述扫描方向(S1)的移动方向(S2)上执行一距离,使得被无效细光束覆盖的位置在被替代细光束覆盖的第二扫描中;‑在所述第一行的第二扫描期间,相对于系统的其余部分沿着所述第一扫描的所述第一行移动所述目标,并且在所述 移动期间,用于所述第一扫描的所述无效细光束的图案数据被用于在所述第二扫描期间控制所述替代细光束;以及‑在所述第二扫描之后,移动所述目标以允许扫描下一行。
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