[发明专利]一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法有效
申请号: | 201310695413.1 | 申请日: | 2013-12-17 |
公开(公告)号: | CN104711504B | 公开(公告)日: | 2018-07-13 |
发明(设计)人: | 王文东;夏洋;李楠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所;北京美桥电子设备有限公司 |
主分类号: | C23C4/134 | 分类号: | C23C4/134;C23C14/48;C23C14/18 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及半导体刻蚀机内衬及石英表面防蚀处理技术领域,具体涉及一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法。所述制备方法,包括如下步骤:步骤(1),选择碳化硼粉末,并将碳化硼粉末送入等离子喷涂设备;步骤(2),对待喷涂的石英基材的表面进行Ti离子注入处理,然后使用丙酮和无水乙醇对石英基材的表面进行清洗;步骤(3),通过等离子喷涂设备在石英基材的表面进行等离子喷涂,制备出碳化硼涂层。本发明在石英基材表面进行Ti离子注入处理,增大了石英基材表面的粗糙度,从而可以提高碳化硼涂层与石英基材之间的界面结合强度。 | ||
搜索关键词: | 石英基材 碳化硼涂层 制备 等离子喷涂设备 碳化硼粉末 离子 半导体刻蚀机 等离子喷涂 界面结合 石英表面 无水乙醇 粗糙度 丙酮 防蚀 内衬 喷涂 清洗 送入 应用 | ||
【主权项】:
1.一种应用于石英基材的碳化硼涂层的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤(1),选择碳化硼粉末,并将所述碳化硼粉末送入等离子喷涂设备;步骤(2),对待喷涂的石英基材的表面进行Ti离子注入处理,然后使用丙酮和无水乙醇对所述石英基材的表面进行清洗;步骤(3),通过所述等离子喷涂设备在所述石英基材的表面进行等离子喷涂,制备出碳化硼涂层;其中,所述步骤(1)中的碳化硼粉末的粒度范围为5~50μm;其中,所述步骤(2)中Ti离子注入的剂量为1~9×1016ion/cm2;其中,所述步骤(3)中所述等离子喷涂设备使用的离子气体为Ar和H2,Ar气体的流量为40~90L/min,H2气体的流量为5~20L/min;其中,所述步骤(3)中等离子喷涂设备的电弧电压为40~90V,电弧电流为600~900A,送粉速度为15~100g/min,喷涂距离为60~140mm,粉斗搅拌速度5~40r/min,送粉角度为50°~90°,机械手移动速度为3~1000mm/s;其中,所述步骤(3)中等离子喷涂的过程中,采用压缩空气喷吹方法或者循环水冷方法来冷却所述石英基材,所述压缩空气喷吹方法中冷却气体的流量为100~2000L/min,所述循环水冷方法中冷却水的流量为10~500L/min。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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