[发明专利]一种碱性化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用在审
| 申请号： | 201310697614.5 | 申请日： | 2013-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN104726869A | 公开（公告）日： | 2015-06-24 |
| 发明（设计）人： | 周文婷 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23F3/04 | 分类号： | C23F3/04;C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种碱性化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用，其中碱性化学机械抛光液包含：研磨颗粒，唑类化合物，有机羧酸，C1～C4季铵碱，氧化剂，本发明所涉及的抛光液可在研磨颗粒浓度较低的情况下，显著提高金属钽的抛光速率，从而整体减少抛光液的成本和对环境的污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 碱性 化学 机械抛光 提高 抛光 速率 中的 应用 | ||
【主权项】：
一种碱性化学机械抛光液在提高钽抛光速率中的应用，其中所述碱性化学机械抛光液包含：研磨颗粒，唑类化合物，有机羧酸，C1～C4季铵碱，氧化剂。
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