[发明专利]在铜互连甲基磺酸铜镀液中添加Fe2+和Fe3+的电镀方法有效

专利信息
申请号: 201310697671.3 申请日: 2013-12-17
公开(公告)号: CN103695973A 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 凌惠琴;张子名;李明;杭弢 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D5/00
代理公司: 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人: 牛山;陈少凌
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种在铜互连甲基磺酸铜镀液中添加Fe2+和Fe3+的电镀方法,包括以下步骤:将带有TSV通孔的硅片放在前处理液中进行超声波前处理;将硅片浸入到含Cu2+、Cl-和甲基磺酸的酸性甲基磺酸铜电镀液中;将添加剂PEG、SPS、JGB和Fe2+/Fe3+氧化还原对进行预混合,静置,获得预混合的添加剂溶液,将所述预混合的添加剂溶液注入所述酸性甲基磺酸铜电镀液中,经过搅拌混合后,在恒定工作电流下进行电镀,同时在电镀过程中使电镀液通过装有高纯铜颗粒的电解槽。本发明在电镀液中增加了Fe2+/Fe3+氧化还原对与PEG和SPS进行组合,从而加快通孔内部铜的沉积速率并能够更加有效抑制表面铜的沉积,进而实现无缺陷填充并降低表面镀铜的厚度,方便后续处理过程。
搜索关键词: 互连 甲基 磺酸铜镀液中 添加 fe sup 电镀 方法
【主权项】:
一种在铜互连甲基磺酸铜镀液中添加Fe2+和Fe3+的电镀方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤(1)将带有TSV通孔的硅片放在前处理液中进行超声波前处理;步骤(2)将所述经过前处理的硅片浸入到含Cu2+、Cl‑和甲基磺酸的酸性甲基磺酸铜电镀液中,所述酸性甲基磺酸铜电镀液的pH值为0~4;步骤(3)将添加剂PEG、SPS、JGB和Fe2+/Fe3+氧化还原对进行预混合,静置,获得预混合的添加剂溶液,将所述预混合的添加剂溶液注入所述酸性甲基磺酸铜电镀液中,经过搅拌混合后,在恒定工作电流下进行电镀,同时在电镀过程中使电镀液通过装有高纯铜颗粒的电解槽。
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