[发明专利]一种高质量CuI晶体的生长方法有效

专利信息
申请号: 201310698405.2 申请日: 2013-12-18
公开(公告)号: CN103695993B 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 庄欣欣;吕洋洋;叶李旺;许智煌;苏根博 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: C30B7/08 分类号: C30B7/08;C30B29/12
代理公司: 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙)11535 代理人: 刘元霞
地址: 350002 *** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明提供了一种CuI晶体的生长方法,属于光电功能材料技术中的晶体生长领域。该方法使用NH4Cl、NH4Br、NH4I等为助溶剂,铜片作为还原剂,生长温区70‑40℃,采用水溶液温差法生长晶体。本发明采用的温差法生长技术具有生长设备简单、成本低廉、生长温度低以及晶体生长不受溶解度限制等优点,所生长的CuI晶体纯度高、均匀性好、尺寸较大,因此作为新一代的超快闪烁晶体,有望在未来超高计数率电子、γ射线和X射线测量中发挥重要作用,同时还作为一种半导体材料用作太阳能电池材料、超导材料和光催化材料。
搜索关键词: 一种 质量 cui 晶体 生长 方法
【主权项】:
CuI晶体的生长方法,该晶体为γ‑CuI晶体,其特征在于,所述方法包括如下步骤:(1)配置CuI在NH4Cl、NH4Br、NH4I系列溶液中的饱和溶液:首先配制好相应浓度的NH4Cl、NH4Br、NH4I系列溶液,再将CuI粉末溶于其中,加热至70℃,利用搅拌器搅拌,直到溶液中CuI不能溶解,过滤得饱和溶液;(2)生长籽晶的制备:利用水溶液降温法获得籽晶,分别以NH4Cl、NH4Br、NH4I溶液为溶剂,铜片为还原剂,在广口瓶中配制CuI的饱和溶液,加盖密封,用磁力搅拌器加热搅拌母液至70‑40℃,而后停止加热和搅拌,母液自然冷却降温并析出晶体,从而得到一些尺寸为1‑2㎜的晶粒,在获得的晶粒中,选择晶形较好的作为籽晶,将籽晶粘在亚克力制的晶架上;(3)晶体生长:采用温差法晶体生长装置,晶体生长时,首先在玻璃生长瓶放置一定量的CuI粉末,然后将配置好的70℃下的饱和溶液注入玻璃生长瓶,将制备好的籽晶粘在亚克力制的晶架上,放入玻璃生长瓶上方,恒温5‑30分钟,将籽晶放入生长溶液生长区范围内,在CuI粉末溶解区放置几块条状的铜片作为还原剂,生长区的温度设定为40℃,CuI粉末溶解区温度设定为70℃,控制转动速率以及温度变化,20天后得到尺寸5mm的CuI晶体。
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