[发明专利]高密度互连器件及方法在审

专利信息
申请号: 201310705286.9 申请日: 2013-12-19
公开(公告)号: CN103887289A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: M·K·洛伊;M·J·曼努沙洛 申请(专利权)人: 英特尔公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L23/538;H01L21/98;H01L21/60
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 张东梅
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 描述了允许经由直接芯片附连(DCA)在微电子管芯和主板之间的高密度和低密度互连的实施例。在一些实施例中,微电子管芯具有高密度互连和低密度连接区域,高密度互连具有沿一个边缘定位的小凸点间距,低密度连接区域具有位于所述管芯的其它区域中的较大的凸点间距。管芯之间的高密度互连区域利用互连桥来互连,该互连桥由能够支持在其上制造高密度互连的材料制成,诸如硅。低密度互连区域用于利用DCA将经互连的管芯直接附连到板。当利用互连桥互连管芯时,高密度互连可利用当前的受控塌陷芯片连接(C4)间距,同时允许电路板上更大的间距。
搜索关键词: 高密度 互连 器件 方法
【主权项】:
一种系统,包括:第一管芯,具有第一管芯边缘和第一管芯表面,所述第一管芯包括:在所述第一管芯表面上与所述第一管芯边缘相邻定位的第一管芯高密度互连,所述第一管芯高密度互连具有第一凸点间距;以及定位在所述第一管芯表面上的第一管芯连接区域,所述第一管芯连接区域具有第二凸点间距;以及第二管芯,具有第二管芯边缘和第二管芯表面,所述第二管芯包括:在所述第二管芯表面上与所述第二管芯边缘相邻定位的第二管芯高密度互连,所述第二管芯高密度互连具有所述第一凸点间距;以及定位在所述第二管芯表面上的第二管芯连接区域,所述第二管芯连接区域具有第三凸点间距;以及桥,所述桥具有多个高密度互连,所述多个高密度互连具有所述第一凸点间距,所述多个高密度互连之一连接到所述第一管芯高密度互连,且所述多个高密度互连中的另一个连接到所述第二管芯高密度互连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于英特尔公司,未经英特尔公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310705286.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top