[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 201310705960.3 申请日: 2013-12-19
公开(公告)号: CN103887305A 公开(公告)日: 2014-06-25
发明(设计)人: 樱井仁美;广濑嘉胤 申请(专利权)人: 精工电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;黄纶伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供半导体装置,其能够以小的面积抑制闩锁效应的发生。在少数载流子捕获区域中,P型扩散区(22)、N型阱(24)和P型扩散区(25)形成于P型半导体衬底(27)的表面。N型扩散区(23)形成于N型阱(24)的表面。此时,N型阱(24)夹在P型扩散区(22)和P型扩散区(25)之间。P型扩散区(22)和P型扩散区(25)不是以最短距离进行连接,而是通过迂回地配置的金属膜配线进行连接,并且,双方都与接地焊盘(12)连接。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,所述半导体装置具备:P型半导体衬底,其具有输入/输出用焊盘、接地焊盘和电源焊盘;第一N型扩散区,其设于所述半导体衬底,并与所述输入/输出用焊盘连接;内部电路区域,其设于所述半导体衬底;以及少数载流子捕获区域,其设置于所述第一N型扩散区和所述内部电路区域之间,所述少数载流子捕获区域具有第一P型扩散区、第二P型扩散区和第二N型扩散区这三重保护环,所述第二N型扩散区夹在所述第一P型扩散区和所述第二P型扩散区之间,所述少数载流子捕获区域捕获由于对所述输入/输出用焊盘施加的电涌而在所述半导体衬底中产生的少数载流子,所述第一P型扩散区和所述第二P型扩散区经由相离地配置的金属膜配线分别与所述接地焊盘连接,所述第二N型扩散区与所述电源焊盘连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工电子有限公司,未经精工电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310705960.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top