[发明专利]半导体装置有效
申请号: | 201310705960.3 | 申请日: | 2013-12-19 |
公开(公告)号: | CN103887305A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 樱井仁美;广濑嘉胤 | 申请(专利权)人: | 精工电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供半导体装置,其能够以小的面积抑制闩锁效应的发生。在少数载流子捕获区域中,P型扩散区(22)、N型阱(24)和P型扩散区(25)形成于P型半导体衬底(27)的表面。N型扩散区(23)形成于N型阱(24)的表面。此时,N型阱(24)夹在P型扩散区(22)和P型扩散区(25)之间。P型扩散区(22)和P型扩散区(25)不是以最短距离进行连接,而是通过迂回地配置的金属膜配线进行连接,并且,双方都与接地焊盘(12)连接。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,所述半导体装置具备:P型半导体衬底,其具有输入/输出用焊盘、接地焊盘和电源焊盘;第一N型扩散区,其设于所述半导体衬底,并与所述输入/输出用焊盘连接;内部电路区域,其设于所述半导体衬底;以及少数载流子捕获区域,其设置于所述第一N型扩散区和所述内部电路区域之间,所述少数载流子捕获区域具有第一P型扩散区、第二P型扩散区和第二N型扩散区这三重保护环,所述第二N型扩散区夹在所述第一P型扩散区和所述第二P型扩散区之间,所述少数载流子捕获区域捕获由于对所述输入/输出用焊盘施加的电涌而在所述半导体衬底中产生的少数载流子,所述第一P型扩散区和所述第二P型扩散区经由相离地配置的金属膜配线分别与所述接地焊盘连接,所述第二N型扩散区与所述电源焊盘连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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