[发明专利]介孔三氧化二铟/还原氧化石墨烯复合光催化剂的制备无效
申请号: | 201310709326.7 | 申请日: | 2013-12-21 |
公开(公告)号: | CN103691418A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 吉宏 | 申请(专利权)人: | 海安县吉程机械有限公司 |
主分类号: | B01J23/08 | 分类号: | B01J23/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 226000 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种介孔三氧化二铟/还原氧化石墨烯复合光催化剂的制备方法:1)介孔三氧化二铟的制备;2)氧化石墨烯的制备;3)介孔三氧化二铟/还原氧化石墨烯复合物的制备。本发明所制备的介孔三氧化二铟具有规则的介孔孔道结构、较大的比表面积和较好的晶型。介孔三氧化二铟与还原氧化石墨烯的复合能够有效抑制光生电子-空穴对的复合机率,提高三氧化二铟的光催化降解有机污染物的性能。 | ||
搜索关键词: | 介孔三 氧化 还原 石墨 复合 光催化剂 制备 | ||
【主权项】:
一种介孔三氧化二铟/还原氧化石墨烯复合光催化剂的制备方法,其特征在于:包括下列步骤:1)介孔三氧化二铟,用m‑In2O3表示取1.0gKIT‑6作为硅基模板溶于15mL乙醇中,强烈搅拌30min,再向上述溶液中加入2.0g硝酸铟,继续搅拌2h,使其混合均匀,然后用旋转蒸发仪在40℃把溶剂蒸干得到白色粉末,将得到的白色粉末在550℃条件下焙烧5h,用2M的氢氧化钠在60℃下去除硅基板KIT‑6,过滤得到产品,再用去离子水和乙醇混合液洗涤2‑3次,在100℃干燥1h得到产品m‑In2O3,准备待用;2)氧化石墨烯的制备,用GO表示取1.0g石墨粉(<30μm)加入100mL水中,然后分别加入0.5g NaNO3、24.0mL H2SO4和3.0g KMnO4,超声震荡10min,将反应液置于冰浴中,强烈搅拌30min,取出在25℃下继续搅拌30min,加入46mL去离子水稀释反应液,加热至98℃继续搅拌10min,再在反应液中加入10mL H2O2和140mL H2O,过滤反应液,分别用5% HCl和去离子水反复冲洗所得反应物3‑5次,将所得产物置于80℃下干燥10h,制得氧化石墨烯(GO),使用前,取一定量GO,溶于去离子水中,配成0.5mg mL‑1的溶液,超声震荡2h,再用11000rpm的转速离心分离10min,移取上层清液待用;3)介孔三氧化二铟/还原氧化石墨烯复合物的制备,用m‑In2O3/RGO表示将上述步骤制备得到的m‑In2O3和0.5mg mL‑1的GO溶液以质量比1:0.1‑0.5为配比,加入至100mL的烧杯中,然后加入50mL乙醇溶液,搅拌30min,然后将混合物超声处理30min,移入100mL高压反应釜内120℃条件下陈化2天,取出冷却至室温,过滤回收所得的复合材料,分别用去离子水和乙醇清洗3‑5次,并在40℃下干燥,得到的产品标记为m‑In2O3/RGO。
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