[发明专利]成膜方法

摘要

本发明提供一种成膜方法。该成膜方法利用成膜装置在上述多个基板上形成含有第1元素及第2元素的掺杂氧化膜，该成膜方法包括以下工序成膜工序，从上述第1气体供给部供给含有上述第1元素的第1反应气体，从上述第2气体供给部供给氧化气体，在上述基板上形成含有上述第1元素的氧化膜；以及掺杂工序，从上述第1气体供给部和上述第2气体供给部中的一者供给含有上述第2元素的第2反应气体，从上述第1气体供给部和上述第2气体供给部中的另一者供给非活性气体，在上述氧化膜上掺杂上述第2元素。

主权项

一种成膜方法，其利用成膜装置在多个基板上形成在含有规定的第1元素的第1氧化膜中掺杂第2元素而成的掺杂氧化膜；上述成膜装置包括：旋转台，其以能够旋转的方式收容在腔室内，具有能够在上表面载置上述多个基板的载置部；第1处理区域，其在上述旋转台的上述上表面的上方被划分而成，具有用于朝向上述旋转台的上述上表面供给气体的第1反应气体供给部；第2处理区域，其沿着上述旋转台的圆周方向与上述第1处理区域分开地配置，具有用于向上述旋转台的上述上表面供给气体的第2反应气体供给部；以及分离区域，其设于上述第1处理区域和上述第2处理区域之间，具有分离气体供给部和顶面，该分离气体供给部用于向上述旋转台的上述上表面供给分离气体，该顶面相对于上述旋转台的上述上表面形成用于将来自该分离气体供给部的上述分离气体向上述第1处理区域和上述第2处理区域引导的狭窄的空间，其中，该成膜方法包括以下工序：第1成膜工序，在从上述第1反应气体供给部供给含有上述第1元素的第1反应气体、从上述第2反应气体供给部供给氧化气体、从上述分离气体供给部供给上述分离气体的状态下，使上述旋转台旋转规定圈数，在上述基板上形成含有上述第1元素的第1氧化膜；以及掺杂工序，在从上述第1反应气体供给部和上述第2反应气体供给部中的一者供给含有上述第2元素的第2反应气体、从上述第1反应气体供给部和上述第2反应气体供给部中的另一者供给非活性气体、从上述分离气体供给部供给上述分离气体的状态下，使上述旋转台旋转规定圈数，在上述第1氧化膜上掺杂上述第2元素，其中，在上述掺杂工序的前后分别具有第1吹扫工序及第2吹扫工序，在该第1吹扫工序及第2吹扫工序中，在从上述第1反应气体供给部供给上述分离气体、从上述第2反应气体供给部供给非活性气体、从上述分离气体供给部供给上述分离气体的状态下，使上述旋转台旋转，以及在上述第1成膜工序和上述掺杂工序之间具有这样的第1后氧化工序：在从上述第1反应气体供给部供给上述分离气体、从上述第2反应气体供给部供给上述氧化气体、从上述分离气体供给部供给上述分离气体的状态下，使上述旋转台旋转至少1圈。