[发明专利]Sc2O3稳定ZrO2基电解质粉体、其制备方法及Sc2O3稳定ZrO2电解质陶瓷片有效

专利信息
申请号: 201310712469.3 申请日: 2013-12-20
公开(公告)号: CN103647097A 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 吴文花;王志坚;樊玉川;刘吉波;苏正夫;黄蓉;邬晔 申请(专利权)人: 湖南稀土金属材料研究院
主分类号: H01M8/12 分类号: H01M8/12
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 吴贵明;张永明
地址: 410100 湖南省长沙*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种Sc2O3稳定ZrO2基电解质粉体及其制备方法及Sc2O3稳定ZrO2电解质陶瓷片。其中Sc2O3稳定ZrO2基电解质粉体以硝酸氧锆、Sc2O3、可选的CeO2、硝酸和可选的辅料为原料,以碳酸氢铵-氨水缓冲体系为沉淀剂,经共沉淀-喷雾-热处理法形成的主体相为立方相的粉体。这种Sc2O3稳定ZrO2基电解质粉体原料价格低廉、无毒,可制备成具有高强度的致密电解质陶瓷片,所制备的离子导电率稳定性等较好。同时,这种Sc2O3稳定ZrO2基电解质粉体制备方法避免了共沉淀法中过滤、洗涤、干燥等后续繁琐工艺,使团聚减少,保证了产品的纯度,而且工序简单,过程连续效率高,有利于大工业化生产。
搜索关键词: sc sub 稳定 zro 电解质 制备 方法 陶瓷
【主权项】:
一种Sc2O3稳定ZrO2基电解质粉体,其特征在于,所述Sc2O3稳定ZrO2基电解质粉体是以硝酸氧锆、Sc2O3、可选的CeO2、硝酸和可选的辅料为原料,以碳酸氢铵‑氨水缓冲体系为沉淀剂,经共沉淀‑喷雾‑热处理法形成的主体相为立方相的粉体。
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