[发明专利]一种图案化均匀氧化铬薄膜的光化学原位制备方法

摘要

本发明公开了一种图案化均匀氧化铬薄膜的光化学原位制备方法，涉及材料表面处理技术。其主要步骤为：1)将金属材料钢表面进行打磨、抛光、清洗和干燥预处理；2)将预处理的钢表面进行激光喷丸处理；3)将激光喷丸处理的钢表面进行渗铬处理；4)将渗铬后的钢表面进行激光控制原位熔凝氧化处理，获得图案化的均匀氧化铬薄膜。本发明能够原位制得图案化的氧化铬薄膜，且氧化铬薄膜的均匀性好，界面结合强度高，性能优异，显著提高了钢的表面性能。本发明工艺过程简单，易操作，适应性强，适合于大规模批量化生产。

主权项

一种图案化均匀氧化铬薄膜的光化学原位制备方法，其特征在于，采用激光喷丸、渗铬与激光控制原位熔凝氧化相结合的光化学方法处理金属材料钢表面，通过激光喷丸细化钢表面组织结构，增加表面缺陷，加速渗铬处理的铬原子的扩散，增加渗铬层厚度，为均匀氧化铬薄膜的形成奠定成分基础，再通过激光控制原位熔凝氧化方法控制熔凝层的厚度与渗铬层厚度相匹配，使表面渗铬层中的铬元素在熔凝过程中与氧发生原位反应，凝固生长后获得图案化的均匀氧化铬薄膜；具体步骤为：A) 将金属材料钢表面进行打磨、抛光、清洗和干燥预处理；B) 将预处理的钢表面进行激光喷丸处理；C) 将激光喷丸处理的钢表面进行渗铬处理；D) 将渗铬后的钢表面进行激光控制原位熔凝氧化处理，获得图案化的均匀氧化铬薄膜。