[发明专利]基于静态膨胀法真空标准校准真空漏孔的装置及方法有效

专利信息
申请号: 201310722746.9 申请日: 2013-12-24
公开(公告)号: CN103759906A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 杨长青;李得天;冯焱;孙雯君;马奔;董猛;张瑞芳;李莉 申请(专利权)人: 兰州空间技术物理研究所
主分类号: G01M3/26 分类号: G01M3/26;G01M3/20
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 孟阿妮
地址: 730013 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明提供一种基于静态膨胀法真空标准校准真空漏孔的装置及方法,包括将第一校准室抽至本底真空度,维持第一校准室静态压力稳定,获取第一校准室本底He离子流随时间的变化率再次将第一校准室抽至本底真空度,接通漏孔,获取He离子流随时间的变化率根据获取漏孔He离子流随时间的变化率关闭漏孔,又一次将第一校准室抽至本底真空度,获取动态本底He离子流I0;通过前级压力进样系统获取预设压力的He气,并将预设压力的He气以静态膨胀的方法膨胀至第一校准室以获取标准气体量ΔqHe,同时获取与第一校准室连接的四极质谱计的He离子流I1;根据标准气体量与He离子上升量的比值,获得四极质谱计的修正因子由以下获得漏孔的漏率上述方案校准精度高。
搜索关键词: 基于 静态 膨胀 真空 标准 校准 漏孔 装置 方法
【主权项】:
1.一种基于静态膨胀法真空标准校准真空漏孔的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、将静态膨胀法真空标准装置的第一校准室抽至本底真空度后,通过非蒸散型吸气剂泵维持所述第一校准室静态压力稳定,以获取所述第一校准室本底He离子流随时间的变化率步骤2、再次将所述第一校准室抽至本底真空度,并接通与所述第一校准室连接的漏孔,以获取He离子流随时间的变化率并根据关系式获取漏孔He离子流随时间的变化率步骤3、关闭所述漏孔,并又一次将所述第一校准室抽至本底真空度,以获取动态本底He离子流I0;步骤4、通过静态膨胀法真空标准装置的前级压力进样系统获取预设压力的He气,并将预设压力的He气采用静态膨胀的方法膨胀至第一校准室以获取标准气体量ΔqHe,同时获取与第一校准室连接的四极质谱计的He离子流I1;步骤5、根据所述标准气体量与He离子上升量的比值,获得所述四极质谱计的修正因子并由以下关系获得漏孔的漏率Q:Q=ΔqHeΔIdIdt.]]>
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