[发明专利]一种单晶硅太阳能电池片去除磷硅玻璃的工艺有效
申请号: | 201310722757.7 | 申请日: | 2013-12-24 |
公开(公告)号: | CN103746030A | 公开(公告)日: | 2014-04-23 |
发明(设计)人: | 田治龙;任春兰;何晓玢;葛瑞丽;曲岩 | 申请(专利权)人: | 宁夏银星能源股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 宁夏专利服务中心 64100 | 代理人: | 赵明辉 |
地址: | 750021 宁夏回族*** | 国省代码: | 宁夏;64 |
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摘要: | 本发明涉及一种单晶硅太阳能电池片去除磷硅玻璃的工艺,用于去除扩散后在硅片表面形成的磷硅玻璃。其特点是,包括如下步骤:(1)将槽式去PSG清洗机6个槽中的杂质清除;(2)向1#酸槽注入纯水100L,然后加入16L质量浓度49%的电子纯氢氟酸,再注入30L纯水,最终得到氢氟酸溶液;向2#快排槽、3#槽、4#槽、5#槽、6#槽注满纯水;(3)将装好硅片的提篮放入去磷硅玻璃清洗机上料口;(4)运行槽式去PSG清洗机;(5)结束后取出提篮,快速放入甩干机内,甩干。本发明可以去除硅片扩散过程中形成的磷硅玻璃,使去PSG后的硅片符合工艺要求,避免硅片表面出现亲水现象,提升扩散后的少子寿命。 | ||
搜索关键词: | 一种 单晶硅 太阳能电池 去除 玻璃 工艺 | ||
【主权项】:
一种单晶硅太阳能电池片去除磷硅玻璃的工艺,其特征在于,包括如下步骤:(1)将槽式去PSG清洗机6个槽中的杂质清除,用纯水将各槽壁冲洗干净;(2)向1#酸槽注入纯水100L,然后加入16L质量浓度49%的电子纯氢氟酸,再注入30L纯水,最终得到氢氟酸溶液,该1#酸槽槽体容积150L;向2#快排槽、3#槽、4#槽、5#槽、6#槽注满纯水,其槽体容积均为150L;(3)将装好硅片的提篮放入去磷硅玻璃清洗机上料口;(4)运行槽式去PSG清洗机,去除硅片表面的磷硅玻璃;(5)结束后取出提篮,快速放入甩干机内,甩干后从提篮中取出花篮,再从花篮中抽取硅片。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的