[发明专利]一种聚合物波导光栅的制作方法在审

专利信息
申请号: 201310724408.9 申请日: 2013-12-24
公开(公告)号: CN104730623A 公开(公告)日: 2015-06-24
发明(设计)人: 王攀;郝沁汾 申请(专利权)人: 杭州华为数字技术有限公司
主分类号: G02B6/13 分类号: G02B6/13;G02B6/124
代理公司: 深圳市深佳知识产权代理事务所(普通合伙) 44285 代理人: 唐华明
地址: 310052 浙江省杭州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明实施例公开了一种聚合物波导光栅的制作方法,包括:根据待制作聚合物波导光栅的类型和性能参数,确定待制作聚合物波导光栅的光栅周期、光栅周期数及其光栅处的折射率改变量;根据待制作聚合物波导光栅的聚合物材料的折射率改变量与电子束曝光剂量之间的关系,确定待形成光栅处所需的电子束曝光剂量;根据电子束的曝光剂量,设定电子束曝光系统的参数;将表面形成有聚合物波导的基片放入电子束曝光系统中,并所述光栅周期和光栅周期数,设定电子束曝光系统的曝光路径;利用所述电子束曝光系统对聚合物波导进行曝光,形成聚合物波导光栅。本发明实施例所提供的制作方法,大大提高了聚合物波导光栅制作方法的简便性和通用性。
搜索关键词: 一种 聚合物 波导 光栅 制作方法
【主权项】:
一种聚合物波导光栅的制作方法,其特征在于,包括:根据待制作聚合物波导光栅的类型和性能参数,确定所述待制作聚合物波导光栅的光栅周期、光栅周期数及其光栅处的折射率改变量;根据所述待制作聚合物波导光栅的聚合物材料的折射率改变量与电子束曝光剂量之间的关系,确定所述待制作聚合物波导光栅中待形成光栅处所需的电子束曝光剂量;根据所述电子束的曝光剂量,设定电子束曝光系统的参数;将表面形成有聚合物波导的基片放入所述电子束曝光系统中,并根据所述待制作聚合物波导光栅的光栅周期及光栅周期数,设定所述电子束曝光系统的曝光路径;曝光路径设置好以后,利用所述电子束曝光系统对所述聚合物波导进行曝光,形成聚合物波导光栅。
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