[发明专利]一种实现基于BCB的磷化铟微波电路多层互联方法有效

专利信息
申请号: 201310728903.7 申请日: 2013-12-26
公开(公告)号: CN103811364B 公开(公告)日: 2017-03-29
发明(设计)人: 王元;程伟;赵岩;牛斌;刘海琪;陈征 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H01L21/60 分类号: H01L21/60
代理公司: 南京君陶专利商标代理有限公司32215 代理人: 沈根水
地址: 210016 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明是一种实现基于BCB的磷化铟微波电路多层互联方法,包括以下步骤1)在磷化铟(InP)衬底上光刻一次布线图形,通过蒸发金属并进行剥离,实现一次布线金属图形化;2)旋涂BCB(Benzocyclobutene),并在氮气氛围下采用高温方式使其固化;3)在固化后的BCB上光刻互联通孔图形,以光刻胶为掩膜,通过干法刻蚀实现BCB通孔的图形化,最终通过电镀的方式实现多层金属的互联;4)光刻二次布线图形,通过电镀方式实现互联通孔的填充及二次互联图形的金属化,实现不同金属层之间的互联。优点可增加多层互联的可靠性,提高对不同厚度的BCB多层互联工艺的适应性,降低InP基微波电路的互联损耗。
搜索关键词: 一种 实现 基于 bcb 磷化 微波 电路 多层 方法
【主权项】:
一种实现基于BCB的磷化铟微波电路多层互联方法,其特征是该方法包括以下步骤:1)在磷化铟(InP)衬底上光刻一次布线图形,通过蒸发金属并进行剥离,实现一次布线金属图形化;2)旋涂BCB(Benzocyclobutene),并在氮气氛围下采用高温方式使其固化;3)在固化后的BCB上光刻互联通孔图形,以光刻胶为掩膜,采用干法刻蚀方法刻蚀掉一次布线金属上的BCB,形成BCB互联通孔;4)去除用于通孔刻蚀的掩膜光刻胶,并重新光刻二次布线图形;5)通过电镀方式实现互联通孔的金属填充及二次互联图形的金属化,最终实现不同金属层之间的互联;所述的步骤1)在磷化铟(InP)衬底上采用光刻一次布线图形,通过蒸发金属Ti/Pt/Au并进行剥离,实现一次布线金属图形化,其中光刻工艺所采用的光刻胶为AZ7908,发射极金属为钛/铂/金(Ti/Pt/Au),Ti的厚度为40纳米,Pt的厚度为40纳米,Au的厚度为500纳米;所述的步骤2)在涂胶机上旋涂BCB,旋涂转速为1000 rpm,完成旋涂后在充满氮气氛围的烘箱内将其在150℃下烘烤20min使BCB固化;所述的步骤3)在固化后的BCB上采用AZ7908光刻胶实现互联通孔图形的光刻,刻蚀气体为四氟化碳CF4,气体流量为50sccm,刻蚀速率为200nm/min。
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