[发明专利]水性擦拭清洁化妆料有效
申请号: | 201310729397.3 | 申请日: | 2013-12-26 |
公开(公告)号: | CN103637930A | 公开(公告)日: | 2014-03-19 |
发明(设计)人: | 汤浅隆太;中野彰浩 | 申请(专利权)人: | 捷鸥化妆品株式会社 |
主分类号: | A61K8/86 | 分类号: | A61K8/86;A61K8/92;A61Q1/14 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 张涛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种清洁力、低刺激性、没有泡沫残留的使用性及保存稳定性优异的用于除去彩妆化妆料的水性擦拭清洁化妆料、及将该化妆料含浸于基体材料而成的用于除去彩妆化妆料的擦拭用化妆片。在用于除去彩妆化妆料的水性擦拭清洁化妆料中,将聚氧乙烯(辛酸/癸酸)甘油酯等(A)聚氧乙烯脂肪酸甘油酯的含量设为3~10质量%,将月桂基甜菜碱等(B)两性表面活性剂的含量设为0.005~2质量%及将丙二醇等(C)多元醇设为1~12质量%的比例,且以实质上不含阴离子性表面活性剂及阳离子性表面活性剂的方式进行调整。通过使该清洁化妆料含浸于基体材料,制成能够携带的擦拭用化妆片。 | ||
搜索关键词: | 水性 擦拭 清洁 化妆 | ||
【主权项】:
一种用于除去彩妆化妆料的水性擦拭清洁化妆料,其含有:(A)3~10质量%的聚氧乙烯脂肪酸甘油酯、(B)0.005~2质量%的两性表面活性剂、以及(C)1~12质量%的多元醇,并且实质上不含阴离子性表面活性剂及阳离子性表面活性剂。
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