[发明专利]一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置及其使用方法

摘要

本发明涉及薄膜材料技术领域，尤其涉及一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置，包括真空室、磁控靶、工件架和旋转支座，磁控靶包括高功率脉冲磁控溅射靶和脉冲直流磁控靶，固定在真空室内，呈九十度对向设置，其磁场布局方式相反，形成闭合场；每个磁控靶的磁场布局方式都为非平衡磁场。本发明通过以上结构的实施方式，具有较好的磁场分布及离子镀效果，能够方便沉积出膜层结合力好、涂层致密、力学性能好、化学成分精确可控的优质涂层用于高速切削刀具。

主权项

一种高功率脉冲等离子体增强复合磁控溅射沉积装置，其特征在于：包括真空室、磁控靶、工件架和旋转支座；所述真空室为密封结构，其上开设有抽气口，所述抽气口与真空泵连接；所述磁控靶包括一个高功率脉冲磁控溅射靶和三个脉冲直流磁控靶，固定在所述真空室内，呈九十度对向设置，其磁场布局方式相反，形成闭合场；每个所述磁控靶的磁场布局方式都为非平衡磁场；所述工件架置于所述磁控靶的磁场内，并且通过所述旋转支座连接在所述真空室的内部，所述旋转支架与所述真空室通过转动机构连接。