[发明专利]光学邻近修正方法有效
| 申请号： | 201310739023.X | 申请日： | 2013-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN104749896B | 公开（公告）日： | 2016-10-05 |
| 发明（设计）人： | 王铁柱 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人： | 骆苏华 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种光学邻近修正方法，所述光学邻近修正方法包括提供曝光光源，所述光源为非对称光源，所述非对称光源在第一方向上的光强与第二方向上的光强有差异；提供待修正图形，根据所述曝光光源的光强分布，将所述待修正图形中的图形拆分为第一方向图形和第二方向图形，所述第一方向图形的长度延伸方向为第一方向，所述第二方向图形的长度延伸方向为第二方向；采用第一方向模型对所述第一方向图形进行光学邻近修正，采用第二方向模型对所述第二方向图形进行光学邻近修正，获得待曝光的修正图形。所述光学邻近修正方法可以提高曝光图形的准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 修正 方法 | ||
【主权项】：
一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：提供曝光光源，所述光源为非对称光源，所述非对称光源在第一方向上的光强与第二方向上的光强有差异；提供待修正图形，根据所述曝光光源的光强分布，将所述待修正图形中的图形拆分为第一方向图形和第二方向图形，所述第一方向图形的长度延伸方向为第一方向，所述第二方向图形的长度延伸方向为第二方向；采用第一方向模型对所述第一方向图形进行光学邻近修正，采用第二方向模型对所述第二方向图形进行光学邻近修正，获得待曝光的修正图形。
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