[发明专利]锗单晶片加工新工艺在审

专利信息
申请号: 201310741866.3 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN103659349A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 杨海严;王雨春;张瑞良 申请(专利权)人: 昆明云锗高新技术有限公司
主分类号: B23Q3/00 分类号: B23Q3/00;B23B27/02
代理公司: 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 代理人: 和琳
地址: 65000*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 锗单晶片加工新工艺,属于锗材料加工工艺,尤其是一种锗红外光学镜片的加工工艺。本发明锗单晶片加工新工艺,该工艺包括将锗单晶毛坯件进行粗磨,之后进行抛光和镀膜,其特征在于粗磨采用切削方式,具体是将待磨的锗单晶毛坯件固定在夹具上,并随夹具旋转,刀具则沿待磨毛坯件表面直线移动,将毛坯表面的粗糙表面去除,形成均匀的光滑表面。本发明的工艺,操作简单,大大缩短了粗磨时间,产品质量能够保证,提高了生产效率,相应的降低了生产成本。
搜索关键词: 晶片 加工 新工艺
【主权项】:
锗单晶片加工新工艺,该工艺包括将锗单晶毛坯件进行粗磨,之后进行抛光和镀膜,其特征在于粗磨采用切削方式,具体是将待磨的锗单晶毛坯件固定在夹具上,并随夹具旋转,刀具则沿待磨毛坯件表面直线移动,将毛坯表面的粗糙表面去除,形成均匀的光滑表面。
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