[发明专利]一种纳米薄膜的测量方法及装置

摘要

本发明公开了一种纳米薄膜的测量方法及装置，其中，纳米薄膜的测量方法包括获得纳米薄膜的透射率测量值或反射率测量值。获得所述纳米薄膜的椭偏参数。预估计所述纳米薄膜的厚度，根据所述椭偏参数以及所述预估计厚度得到所述纳米薄膜的赝光学常数。根据所述预估计厚度以及所述赝光学常数得到所述纳米薄膜的透射率计算值或反射率计算值。将透射率测量值或反射率测量值分别与透射率计算值或反射率计算值进行误差比较，将误差值最小时对应的预估计厚度以及赝光学常数作为所述纳米薄膜的厚度以及光学常数。采用透射率或反射率辅助椭偏法进行分析，引入赝光学常数，采用拟合算法和迭代算法对数据进行处理，精确测量薄膜样品光学常数及厚度。

主权项

一种纳米薄膜的测量方法，其特征在于，包括：获得纳米薄膜的透射率测量值或反射率测量值；获得所述纳米薄膜的椭偏参数；预估计所述纳米薄膜的厚度，根据所述椭偏参数以及所述预估计厚度得到所述纳米薄膜的赝光学常数；根据所述预估计厚度以及所述赝光学常数得到所述纳米薄膜的透射率计算值或反射率计算值；将透射率测量值或反射率测量值分别与透射率计算值或反射率计算值进行误差比较，将误差值最小时对应的预估计厚度以及赝光学常数作为所述纳米薄膜的厚度以及光学常数；其中，根据所述椭偏参数以及所述预估计厚度得到所述纳米薄膜的赝光学常数，包括：将所述椭偏参数以及所述预估计厚度代入椭偏方程，得到纳米薄膜的赝光学常数，赝光学常数表示为复折射率n为实部，代表折射率；k为虚部，代表消光系数；i为虚数单位；椭偏方程为：其中，椭偏参数ψ和Δ，薄膜厚度d、入射光波长λ，入射角空气折射率n1＝1，纳米薄膜的复折射率衬底材料的折射率当n1、入射光的波长和入射角确定时，通过椭偏参数ψ和Δ，确定纳米薄膜在厚度d下的n2和k2。