[发明专利]光刻用防护薄膜组件

摘要

本发明所欲解决的技术问题为从防护薄膜组件内部空间尽量减少在防护薄膜组件与遮罩的密闭空间内于曝光时引起不良情况的物质。为解决上述问题，本发明提供一种光刻用防护薄膜组件，其在光刻用防护薄膜组件框架上设置多个通气孔，并用防尘用过滤器覆盖该通气孔，该光刻用防护薄膜组件框架的厚度为2mm，至少在一边设置多个通气孔，横跨该至少在一边的多个通气孔设置深度为1mm的锪削加工部，且将该锪削加工部的壁面加工成推拔状。设置在框架上的通气孔以及锪削加工部在框架的各边上至少设置一处，推拔状加工的倾斜面角度从与框架面垂直的方向量起大于90度而小于180度，锪削加工部为圆形或椭圆形，再者锪削加工部可横跨多个通气孔。

主权项

一种光刻用防护薄膜组件，其在光刻用防护薄膜组件框架上设置多个通气孔，并以防尘用过滤器覆盖该通气孔，其特征在于，该光刻用防护薄膜组件框架的厚度为2mm，至少在一边设置多个通气孔，横跨该至少在一边的多个通气孔设置深度为1mm的锪削加工部，且将该锪削加工部的壁面加工成推拔状。