[发明专利]ITO‑PVD设备抽真空控制的方法及系统有效
| 申请号： | 201310745230.6 | 申请日： | 2013-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN104746033B | 公开（公告）日： | 2017-02-08 |
| 发明（设计）人： | 张璐 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人： | 陈振 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种ITO‑PVD设备抽真空控制的方法及系统。其中该方法包括如下步骤设置ITO‑PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；工艺加工过程中，当ITO‑PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。其在保证设备工艺加工的真空度要求的同时，节省设备成本，且可有效避免硬件设备之间的冲突。 | ||
| 搜索关键词： | ito pvd 设备 真空 控制 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种ITO‑PVD设备抽真空控制的方法，其特征在于，包括以下步骤：设置ITO‑PVD设备中的传输腔室为系统干泵默认腔室，且不配置冷泵，对ITO工艺腔室配置冷泵；对所述默认腔室，当除所述默认腔室以外的其他腔室未占用所述系统干泵时，所述系统干泵持续对所述默认腔室进行抽真空；工艺加工过程中，当ITO‑PVD设备中的腔室请求进行抽真空时，根据所述腔室配置冷泵的情况进行抽真空处理。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司，未经北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310745230.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种薄膜封装方法
- 下一篇：成膜装置、载体和制造成膜基板的方法
- 同类专利
- 专利分类
