[发明专利]光学邻近修正方法

摘要

一种光学邻近修正方法，所述光学邻近修正方法包括建立光刻分辨率限制表，光刻分辨率限制表包括可曝光区域和不可曝光区域；提供当前层图形和相邻层图形，并且将当前层图形和相邻层图形重叠，形成重叠图形；确定当前层图形中的坏边；在坏边上加入切分点，切分点分别位于第一相邻层子图形的上方和下方，切分点之间的部分坏边作为第一线段，坏边的其余部分作为第二线段；移动第二线段，使第一待修正子图形中第二线段的相对边与第二线段之间具有第二宽度，第二线段与相邻当前层子图形之间具有第二间距，第二宽度和第二间距位于光刻分辨率限制表中的可曝光区域；根据所述第一线段的长度，将第一线段移动相应的距离。可以避免影响半导体器件的性能。

主权项

一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括：根据图形长度、宽度以及相邻图形之间的间距，建立光刻分辨率限制表，所述光刻分辨率限制表包括可曝光区域和不可曝光区域；提供当前层图形和相邻层图形，所述当前层图形中包括若干当前层子图形，所述相邻层图形包括若干相邻层子图形，并且将所述当前层图形和相邻层图形重叠，形成重叠图形；确定所述当前层图形中的坏边，所述坏边所在的当前层子图形作为第一待修正子图形，所述第一待修正子图形具有第一宽度，所述坏边与相邻当前层子图形之间具有第一间距，所述第一宽度和第一间距位于光刻分辨率限制表中的不可曝光区域，并且，在重叠图形中，所述坏边与部分相邻层子图形相交或间距小于预设值，所述部分相邻层子图形作为第一相邻层子图形；在所述坏边上加入切分点，所述切分点分别位于第一相邻层子图形的上方和下方，所述切分点之间的部分坏边作为第一线段，坏边的其余部分作为第二线段；移动所述第二线段，使第一待修正子图形中第二线段的相对边与第二线段之间具有第二宽度，第二线段与相邻当前层子图形之间具有第二间距，所述第二宽度和第二间距位于光刻分辨率限制表中的可曝光区域；根据所述第一线段的长度，对照光刻分辨率限制表，将第一线段移动相应的距离，使第一待修正子图形中第一线段的相对边与第一线段之间具有第三宽度，第一线段与相邻当前层子图形之间具有第三间距，所述第三宽度和第三间距位于第一线段的长度所对应的光刻分辨率限制表中的可曝光区域。