[发明专利]带有绝缘埋层的高压晶体管有效

专利信息
申请号: 201310748915.6 申请日: 2013-12-31
公开(公告)号: CN103762232B 公开(公告)日: 2016-11-16
发明(设计)人: 魏星;徐大伟;狄增峰;方子韦 申请(专利权)人: 上海新傲科技股份有限公司
主分类号: H01L29/772 分类号: H01L29/772;H01L29/06
代理公司: 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人: 孙佳胤;翟羽
地址: 201821 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种带有绝缘埋层的高压晶体管,所述绝缘埋层将衬底分割成器件层和支撑层,所述器件层具有第一导电类型所述高压晶体管包括:第一栅极,所述器件层中具有一第一沟槽,所述第一沟槽内填充第一栅介质层,所述第一栅介质层的表面进一步具有一第二沟槽,所述第一栅极设置于所述第二沟槽中;源极和漏极,所述源极和漏极具有第一导电类型,且位于器件层中第一栅介质层的两侧,所述源极进一步设置在所述器件层表面的一掺杂阱中,所述掺杂阱具有第二导电类型;进一步包括第二栅极,所述掺杂阱的表面覆盖第二栅介质层,所述第二栅极设置在所述第二栅介质层的表面。本发明的优点在于提高了器件的电流驱动能力,减小导通电阻。
搜索关键词: 带有 绝缘 高压 晶体管
【主权项】:
一种带有绝缘埋层的高压晶体管,采用带有绝缘埋层的衬底,所述绝缘埋层将衬底分割成器件层和支撑层,所述器件层具有第一导电类型,所述高压晶体管包括:第一栅极,所述器件层中具有一第一沟槽,所述第一沟槽内填充第一栅介质层,所述第一栅介质层的表面进一步具有一第二沟槽,所述第一栅极设置于所述第二沟槽中;源极和漏极,所述源极和漏极具有第一导电类型,且位于器件层中第一栅介质层的两侧,所述源极进一步设置在所述器件层表面的一掺杂阱中,所述掺杂阱具有第二导电类型;其特征在于,进一步包括:第二栅极,所述掺杂阱的表面覆盖第二栅介质层,所述第二栅极设置在所述第二栅介质层的表面,所述第二栅介质层进一步延伸覆盖至器件层在源极一侧的表面和侧面,且第二栅介质层延伸部分的表面亦覆盖第二栅极。
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