[发明专利]反应腔室及等离子体加工设备

摘要

本发明提供一种反应腔室及等离子体加工设备，该反应腔室包括承载装置，承载装置设置在反应腔室内，用于承载被加工工件，在承载装置的侧壁外侧和反应腔室的内侧壁之间设置有一个悬臂，在承载装置的侧壁外侧和反应腔室的内侧壁之间还设置有至少一个辅助装置，至少一个辅助装置和悬臂沿承载装置的周向间隔且均匀设置，并且阻挡反应腔室内气体流动的每个辅助装置和悬臂的上表面相同。本发明提供的反应腔室，其可以提高反应腔室内的气流场的均匀性和对称性，因而可以使得被加工工件的刻蚀速率测绘图为中心对称图形，从而可以采用现有的调节方式调节被加工工件的刻蚀均匀性，进而可以提高工艺质量。

主权项

一种反应腔室，包括承载装置，所述承载装置设置在反应腔室内，用于承载被加工工件，在所述承载装置的侧壁外侧和所述反应腔室的内侧壁之间设置有一个悬臂，其特征在于，在所述承载装置的侧壁外侧和所述反应腔室的内侧壁之间还设置有至少一个辅助装置，至少一个所述辅助装置和所述悬臂沿所述承载装置的周向间隔且均匀设置，并且阻挡所述反应腔室气体流动的每个所述辅助装置和所述悬臂的上表面相同。