[发明专利]一种反应腔室及等离子体加工设备有效
| 申请号： | 201310750632.5 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104752140A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 李兴存;韦刚;李东三;宋铭明 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 彭瑞欣,张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种反应腔室及等离子体加工设备，其包括电源、介质窗、连接侧壁和平面线圈；介质窗水平设置于反应腔室的顶部，其由非导电材料制成；介质窗的数量为一个或多个，且其中包括至少一个不与反应腔室的顶壁处于同一水平面上的第一介质窗；第一介质窗通过连接侧壁与反应腔室的顶壁固定连接，且第一介质窗和连接侧壁相配合将反应腔室内部分割为多个区域；平面线圈设置于介质窗的上方，且与电源电连接，用于在与电源连接时，产生电磁场，将反应腔室内与其对应的区域内的工艺气体激发为等离子体。上述反应腔室，可以控制等离子体在反应腔室内的分布和反应腔室内等离子体的密度；并提高感应耦合产生等离子体的效率更高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 反应 等离子体 加工 设备 | ||
【主权项】：
一种反应腔室，用于对被加工工件进行工艺处理，其特征在于，所述反应腔室包括电源、介质窗、连接侧壁和平面线圈；所述介质窗水平设置于所述反应腔室的顶部，其由非导电材料制成；所述介质窗的数量为一个或多个，且其中包括至少一个不与所述反应腔室的顶壁处于同一水平面上的第一介质窗；所述第一介质窗通过所述连接侧壁与所述反应腔室的顶壁固定连接，且所述第一介质窗和所述连接侧壁相配合将所述反应腔室内部分割为多个区域；所述平面线圈设置于介质窗的上方，且与所述电源电连接，用于在与电源连接时，产生电磁场，将反应腔室内与其对应的区域内的工艺气体耦合为等离子体。
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