[发明专利]一种质量流量控制器的校准方法及装置

摘要

本发明实施例提供了一种质量流量控制器的校准方法及装置，所述质量流量控制器设置在半导体设备中，在所述质量流量控制器设定有通入气体的设定流量，所述方法包括当所述腔室通入气体时，采集所述腔室的气压；依据所述腔室的气压计算所述气体的实际流量；计算所述实际流量与所述设定流量的误差；当所述误差超过预设的差异阈值时，则判定所述质量流量控制器不符合规格；否则，判定所述质量流量控制器符合规格。本发明避免了在采集腔室气压过程中工艺规和腔室规进行切换，解决了采集腔室气压过程中因工艺规和腔室规切换引起测量数值差异大导致的MFC校准结果误差较大的问题，提高了MFC校准的准确度。

主权项

一种质量流量控制器的校准方法，其特征在于，所述质量流量控制器设置在半导体设备中，在所述质量流量控制器设定有通入气体的设定流量，所述方法包括：当所述腔室通入气体时，采集所述腔室的气压；依据所述腔室的气压计算所述气体的实际流量；计算所述实际流量与所述设定流量的误差；当所述误差超过预设的差异阈值时，则判定所述质量流量控制器不符合规格；否则，判定所述质量流量控制器符合规格；其中，所述采集所述腔室的气压的步骤包括：当所述气体为小流量气体时，采用工艺规采集所述腔室的气压；所述小流量气体为气体流量小于或等于预置的第一气体流量阈值的气体；当所述气体为中流量气体时，采用腔室规采集所述腔室的气压；所述中流量气体为气体流量大于所述第一气体流量阈值，且小于或等于预置的第二气体流量阈值的气体；当所述气体为大流量气体时，采用腔室规采集所述腔室的气体压力；所述大流量气体为气体流量大于所述第二气体流量阈值的气体。