[发明专利]一种等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201310753338.X | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN104752143B | 公开（公告）日： | 2017-05-03 |
| 发明（设计）人： | 梁洁;叶如彬 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/04 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种等离子体处理装置，包括反应腔，反应腔内包括一个基座，基座上设置有静电夹盘，待处理基片设置在所述静电夹盘上；一调节环围绕在所述静电夹盘外围，一个边缘补偿环围绕在所述基座或静电夹盘的外围，且位于调节环下方，其特征在于所述边缘补偿环内埋设有一个电极，一个功率分配电路通过第一、第二输入端接收第一和第二射频电源并通过第一输出端输出所述第一和第二射频电源到所述基座，同时通过第二输出端输出第一或第二射频电源到所述边缘补偿环内的电极，所述功率分配电路还包括一个第三输入端接收第一直流电压源，并通过所述第二输出端输出所述直流电压到所述边缘补偿环内的电极。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，包括：反应腔，反应腔内包括一个基座，基座上设置有静电夹盘，待处理基片设置在所述静电夹盘上；一调节环围绕在所述静电夹盘外围，一个边缘补偿环围绕在所述基座或静电夹盘的外围，且位于调节环下方；其特征在于：所述边缘补偿环内埋设有一个电极；一个功率分配电路通过第一、第二输入端接收第一和第二射频电源并通过第一输出端输出所述第一和第二射频电源到所述基座，同时通过第二输出端输出第一或第二射频电源到所述边缘补偿环内的电极；所述功率分配电路还包括一个第三输入端接收第一直流电源，并通过所述第二输出端输出所述直流电压到所述边缘补偿环内的电极；所述边缘补偿环固定在绝缘材料环上，所述绝缘材料环固定到基座向外延伸部上。
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