[发明专利]一种气敏传感器及其制备方法有效
申请号: | 201310753768.1 | 申请日: | 2013-12-31 |
公开(公告)号: | CN103698365A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 官德斌;杨云涛;邓建国 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院化工材料研究所;四川省新材料研究中心 |
主分类号: | G01N27/00 | 分类号: | G01N27/00 |
代理公司: | 四川省成都市天策商标专利事务所 51213 | 代理人: | 刘兴亮 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种气敏传感器,包括由下至上安装的基板、底电极、绝缘层、上电极引线层、敏感薄膜层和上电极组成,所述的敏感薄膜层为稀土金属酞菁LB膜敏化大带宽金属氧化物纳米孔道阵列结构,如TiO2纳米管阵列。本发明还提供了所述气敏传感器的制备方法。本发明提供的气敏传感器结构新颖、易于集成。本身体积可控,为传感器的小型化、轻型化、集成化提供了便利。因其在室温下工作,在化工、医药、食品工业等都具有非常广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 传感器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种气敏传感器,包括由下至上安装的基板、底电极、绝缘层、上电极引线层、敏感薄膜层和上电极组成,其特征在于:所述的敏感薄膜层为稀土金属酞菁LB膜敏化大带宽金属氧化物纳米孔道阵列结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院化工材料研究所;四川省新材料研究中心,未经中国工程物理研究院化工材料研究所;四川省新材料研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310753768.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。