[发明专利]大体积微波等离子体制备类金刚石薄膜的装置无效
| 申请号： | 201310754676.5 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN103726032A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 熊礼威;崔晓慧;汪建华;翁俊;龚国华 | 申请（专利权）人： | 武汉工程大学 |
| 主分类号： | C23C16/517 | 分类号： | C23C16/517;C23C16/511;C23C16/513;C23C16/26 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 崔友明 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种大体积微波等离子体制备类金刚石薄膜的装置，包括谐振腔、石英管反应腔、多个微波源和多个微波输入系统，所述微波源产生的微波通过所述微波输送系统送入所述谐振腔内，所述石英管反应腔位于所述谐振腔内，所述谐振腔为空心五棱柱，空心五棱柱的五个面分别对应不同的微波源和微波输入系统。本发明适合大批量制备类金刚石保护涂层，能够实现类金刚石薄膜光学涂层的产业化，极大地推动类金刚石产业的发展。 | ||
| 搜索关键词： | 体积 微波 等离子体 制备 金刚石 薄膜 装置 | ||
【主权项】：
一种大体积微波等离子体制备类金刚石薄膜的装置，其特征在于，包括谐振腔、石英管反应腔、多个微波源和多个微波输入系统，所述微波源产生的微波通过所述微波输送系统送入所述谐振腔内，所述石英管反应腔位于所述谐振腔内，所述谐振腔为空心五棱柱，空心五棱柱的五个面分别对应不同的微波源和微波输入系统。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉工程大学，未经武汉工程大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201310754676.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
