[发明专利]静态磁场‑激光同轴复合熔覆方法及装置有效

专利信息
申请号: 201310755461.5 申请日: 2013-12-31
公开(公告)号: CN103741138B 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 姚建华;王梁;张群莉;陈智君 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: C23C24/10 分类号: C23C24/10
代理公司: 杭州天正专利事务所有限公司33201 代理人: 王兵,黄美娟
地址: 310014 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 静态磁场‑激光同轴复合熔覆方法及装置,属于激光加工技术领域。本发明涉及的静态磁场由电磁铁提供,并设计了一种装置实现磁场和激光束的同轴复合。在进行磁场‑激光同轴复合熔覆时,磁场发生装置与激光束同轴同步移动,利用此装置可完成磁场和激光所致熔池流场的双场耦合,配合预置或同轴送粉方式完成激光熔覆过程,主要实现对激光所致熔池流动的平抑作用,从而达到调控凝固组织、改善熔覆层表面形貌、优化应力分布、减少熔覆过程中的飞溅现象等目的。本发明实现了磁场与激光的同轴同步运动,具有对熔覆层的调控能力好、适用面广、装置简单、便于推广等特点。
搜索关键词: 静态 磁场 激光 同轴 复合 方法 装置
【主权项】:
静态磁场‑激光同轴复合熔覆的方法的专用装置,静态磁场‑激光同轴复合熔覆的方法是:(1)将待熔覆基体表面进行打磨、清洗、干燥等预处理,然后将其通过夹具固定在工作台的合适位置;(2)在励磁线圈内通入1~5A直流电流,使励磁线圈内部的导磁铁芯上产生强度为0.2~1T的静态磁场;(3)将导磁铁芯的端面靠近基体表面,开启保护气、送粉器、激光器,执行熔覆程序,使熔覆区同时受到静态磁场的作用,磁场方向与基体表面垂直,并与激光束平行;由于高能激光束的作用,熔池内部发生强烈对流搅动,当导电流体的运动方向不与磁场方向平行时,即会产生与熔池对流方向相反的洛伦兹力,抑制熔池的流动;(4)所述激光熔覆的工艺为:光斑直径为4~6mm,送粉速度为0~20g/min,保护气体为氩气或氮气,气体流速为4~20L/h,激光功率为1~3kW,扫描速度为300~600mm/min;其特征在于:包括依次连接的激光发生器、激光传输通道、导磁铁芯、同轴送粉器,所述的导磁铁芯外设有励磁线圈,气体保护装置与激光传输通道相连,其中励磁线圈与导磁铁芯同轴组合,导磁铁芯与送粉器同轴组合,送粉器与激光传输通道同轴组合,激光发生器与激光传输通道可通过柔性光纤或飞行光路连接,熔覆基体置于工作台上,气体保护装置与激光传输通道相连。
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