[实用新型]一种MOCVD设备的备件烘烤治具有效
申请号: | 201320012143.5 | 申请日: | 2013-01-10 |
公开(公告)号: | CN203034090U | 公开(公告)日: | 2013-07-03 |
发明(设计)人: | 林长军 | 申请(专利权)人: | 合肥彩虹蓝光科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230012 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种MOCVD设备的备件烘烤治具,包括定位板;所述定位板为两组,呈对称间隔设置,包括卡设住备件中部的上定位板及卡设主备件底部的下定位板,所述两组定位板两侧连接安装有散热挡板,所述散热挡板中部开设有位置相同的散热孔。本实用新型结构简单,操作方便,不仅能够稳定的支撑住在烘烤时备件,而且对烘烤时温度的均匀度影响也较小,散热挡板的设置能够有效排出气化后的沉积物,提高了沉积物的清除效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 mocvd 设备 备件 烘烤 | ||
【主权项】:
一种MOCVD设备的备件烘烤治具,包括定位板,其特征在于:包所述定位板为两组,呈对称间隔设置,包括卡设住备件中部的上定位板及卡设主备件底部的下定位板,所述两组定位板两侧连接安装有散热挡板,所述散热挡板中部开设有位置相同的散热孔。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的