[实用新型]石墨盘吸取装置有效
| 申请号： | 201320012266.9 | 申请日： | 2013-01-10 |
| 公开（公告）号： | CN203034094U | 公开（公告）日： | 2013-07-03 |
| 发明（设计）人： | 林长军 | 申请（专利权）人： | 合肥彩虹蓝光科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C30B25/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230012 *** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种石墨盘吸取装置，包括吸盘体，所述吸盘体包括盘形吸附腔及围绕在盘形吸附腔吸附面周围的石英吸紧条，所述盘形吸附腔的另一侧与抽真空管体相连通。本实用新型结构简单，制造方便，在操作时稳定性能较好，不易脱离石墨盘，能够有效避免石墨盘的脱落损坏，并且能够减少作业时间，提高作业效率。 | ||
| 搜索关键词： | 石墨 吸取 装置 | ||
【主权项】：
一种石墨盘吸取装置，包括吸盘体，其特征在于：所述吸盘体包括盘形吸附腔及围绕在盘形吸附腔吸附面周围的石英吸紧条，所述盘形吸附腔的另一侧与抽真空管体相连通。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
