[实用新型]一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块有效
| 申请号： | 201320057588.5 | 申请日： | 2013-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN203077077U | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 全任茂;莫浩文;叶富昌 | 申请（专利权）人： | 佛山市纳铭精工科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B41/04 | 分类号： | B24B41/04 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 贺红星 |
| 地址： | 528200 广东省佛*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块，包括夹持头、磨削组件，该夹持头上设置有一工作面，该工作面为一朝外凸的曲面；所述磨削组件包括排列在工作面上的若干排抛光单元，任意一排抛光单元均包括至少两个弹性抛光块。本实用新型通过将工作面设置为一朝外凸的曲面，当弹性磨块摆动时或随着磨头旋转时，可使磨削组件与釉砖的凹面进行良好的接触，从而提高抛光效果，而且，由于弹性抛光块具有良好的弹性，可便于顺利地抛光釉砖，进一步提高抛光效果，以提高产品的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 抛光 曲面 弹性 | ||
【主权项】：
一种用于抛光曲面釉砖的弹性磨块，其特征在于：包括夹持头、磨削组件，该夹持头上设置有一工作面，该工作面为一朝外凸的曲面；所述磨削组件包括排列在工作面上的若干排抛光单元，任意一排抛光单元均包括至少两个弹性抛光块。
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