[实用新型]一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备有效

专利信息
申请号: 201320064809.1 申请日: 2013-01-31
公开(公告)号: CN203096166U 公开(公告)日: 2013-07-31
发明(设计)人: 马利红;曾永远;李翀 申请(专利权)人: 杭州五源科技实业有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44;C23C16/455;C23C16/26
代理公司: 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 代理人: 郑青松
地址: 310030 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备,所述设备包括沉积室以及与所述沉积室相连的供气装置和抽真空装置,所述沉积室上设有多个进气口,各个进气口通过角阀与所述供气装置连通,其中,所述沉积室包括:下部腔体和可拆卸的上部腔体,所述上部腔体与下部腔体通过卡环加氟橡胶圈密封;支架,所述支架从所述沉积室的下部腔体延伸至上部腔体,并且在所述支架上设有基片加热装置。本实用新型具备体积小,构造简单、造价低廉的优点,可制备如石墨烯、过镀金属硫化物、硅烯、锗烯或氮化硼等二维纳米薄膜,有助于实现二维纳米薄膜的生产,促进二维纳米薄膜的应用。
搜索关键词: 一种 制备 纳米 薄膜 化学 沉积 设备
【主权项】:
一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备,其特征在于,所述设备包括沉积室以及与所述沉积室相连的供气装置和抽真空装置,所述沉积室上设有多个进气口,各个进气口通过角阀与所述供气装置连通,其中,所述沉积室包括:下部腔体和可拆卸的上部腔体,所述上部腔体与下部腔体通过卡环加氟橡胶圈密封;支架,所述支架从所述沉积室的下部腔体延伸至上部腔体,并且在所述支架上设有基片加热装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州五源科技实业有限公司,未经杭州五源科技实业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201320064809.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top