[实用新型]一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备有效
申请号: | 201320064809.1 | 申请日: | 2013-01-31 |
公开(公告)号: | CN203096166U | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
发明(设计)人: | 马利红;曾永远;李翀 | 申请(专利权)人: | 杭州五源科技实业有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/26 |
代理公司: | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 郑青松 |
地址: | 310030 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备,所述设备包括沉积室以及与所述沉积室相连的供气装置和抽真空装置,所述沉积室上设有多个进气口,各个进气口通过角阀与所述供气装置连通,其中,所述沉积室包括:下部腔体和可拆卸的上部腔体,所述上部腔体与下部腔体通过卡环加氟橡胶圈密封;支架,所述支架从所述沉积室的下部腔体延伸至上部腔体,并且在所述支架上设有基片加热装置。本实用新型具备体积小,构造简单、造价低廉的优点,可制备如石墨烯、过镀金属硫化物、硅烯、锗烯或氮化硼等二维纳米薄膜,有助于实现二维纳米薄膜的生产,促进二维纳米薄膜的应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 制备 纳米 薄膜 化学 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备,其特征在于,所述设备包括沉积室以及与所述沉积室相连的供气装置和抽真空装置,所述沉积室上设有多个进气口,各个进气口通过角阀与所述供气装置连通,其中,所述沉积室包括:下部腔体和可拆卸的上部腔体,所述上部腔体与下部腔体通过卡环加氟橡胶圈密封;支架,所述支架从所述沉积室的下部腔体延伸至上部腔体,并且在所述支架上设有基片加热装置。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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