[实用新型]等离子处理装置有效
| 申请号： | 201320067605.3 | 申请日： | 2013-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN203179834U | 公开（公告）日： | 2013-09-04 |
| 发明（设计）人： | 赵芝强 | 申请（专利权）人： | 珠海宝丰堂电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 曾旻辉;王朔 |
| 地址： | 519000 广东省珠*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种等离子处理装置，包括真空腔体和等离子体发生组件，所述等离子体发生组件包括：等离子体发生腔，开设于所述真空腔体腔壁；电极模组，设置于所述等离子体发生腔内，所述电极模组的放电端正对所述真空腔体内部，所述电极模组由多个平行矩阵排列的管状电极组成；微波等离子激励源，与所述电极模组电连接；气体输送管道，自所述等离子体发生腔侧壁连通于所述等离子体发生腔。上述等离子处理装置，气流在等离子体发生腔内流动时，侧壁阻挡而转向，进入真空腔体。在该过程中流速减慢，电离更充分；并流形成紊流，使气流中的等离子体混合均匀。气体经所述等离子体发生组件，形成均匀的等离子气体，对产品进行等离子处理，处理效果好。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子处理装置，包括真空腔体和等离子体发生组件，其特征在于，所述等离子体发生组件包括：等离子体发生腔，开设于所述真空腔体腔壁；电极模组，设置于所述等离子体发生腔内，所述电极模组的放电端正对所述真空腔体内部，所述电极模组由多个平行矩阵排列的管状电极组成；微波等离子激励源，与所述电极模组电连接；气体输送管道，自所述等离子体发生腔侧壁连通于所述等离子体发生腔。
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